光刻機

描述

EVG610 支援多種標準光刻工藝，例如真空曝光、硬曝光、軟曝光和近場曝光模式，並可選配背面對準功能。此外，該系統還提供鍵合對準和奈米壓印光刻 (NIL) 等附加功能。 EVG610 可快速處理和重新配置，以適應使用者不斷變化的需求，轉換時間僅需幾分鐘。其先進的多用戶設計理念可滿足從初學者到專家級用戶的需求，因此非常適合大學和研發應用。